1、為單組分UV接觸曝光,稀堿顯影、抗蝕刻抗電鍍油墨。專門針對內(nèi)層電路板蝕刻工藝設(shè)計(jì),采用滾涂工藝,專用于高精度內(nèi)層電路板的制作。2、開油及粘度調(diào)整—涂布—預(yù)烤—曝光—顯影—蝕刻—退墨